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今年全球半导体设备投资将首次突破1000亿美元

发布时间:2018-05-28   文章来源:韩国News1新闻网


       韩国News1新闻网5月25日报道,据半导体调查机构Icinsides报告显示,2017年全球半导体设备投资额为900亿美元,其中三星电子对龙仁、平泽工厂的投资额高达242亿美元,出现了“三星泡沫”现象。今年全球半导体设备投资仍将延续增长态势,预计将突破1000亿美元大关。其中,三星电子、SK海力士等韩企仍将是投资主力。今年一季度,三星电子半导体设备投资额高达67亿美元,同比增长43.7%,预计全年将达200亿美元;SK海力士投资额为42亿美元,同比暴涨92%,创下公司建立以来单季最高投资金额,预计全年将达115亿美元。两家韩企一季度半导体投资额合计109亿美元,占全球半导体投资全年预期值的10%。

       报告还显示,SK海力士今年投资额主要流向将是3D NAND Flash的生产基地清州工厂和中国无锡工厂,两家工厂M15 Feb及DRAM生产线预计年底将建成投产。